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    左右尋邊頭 EVK2-CP/800.71/R EMG 對(duì)中裝置

    簡(jiǎn)要描述:左右尋邊頭 EVK2-CP/800.71/R EMG 對(duì)中裝置
    伺服電機(jī)放大器是積分式電動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)(如DKJ、DK乙等)實(shí)現(xiàn)比例式控制不可少的組成部分。作為基本伺服放大器單元,輸入模擬量(DC4~20mA)信號(hào)通道1個(gè),閥位反饋模擬量信號(hào)通道1個(gè),輸出電動(dòng)機(jī)正、反動(dòng)作的開(kāi)關(guān)量觸點(diǎn)(固態(tài)繼電器或繼電器觸點(diǎn))2個(gè)

    • 產(chǎn)品型號(hào):
    • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
    • 更新時(shí)間:2024-11-15
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    品牌其他品牌制作工藝其他
    輸出信號(hào)其他

    左右尋邊頭 EVK2-CP/800.71/R EMG 對(duì)中裝置

    伺服電機(jī)放大器在電動(dòng)執(zhí)行結(jié)構(gòu)中的作用是信號(hào)放大,它接受4~20mA的控制信號(hào),將信號(hào)放大為可控制電動(dòng)機(jī)正反轉(zhuǎn)的強(qiáng)電信號(hào),控制執(zhí)行機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)正轉(zhuǎn)或反轉(zhuǎn)。執(zhí)行機(jī)構(gòu)的伺服放大器有兩種模式,一種為執(zhí)行機(jī)構(gòu)本身帶有伺服放大器,結(jié)構(gòu)緊湊,不需占有儀表盤(pán)后空間,安裝及調(diào)試較為傳統(tǒng)的應(yīng)用方法,檢修及更換較為容易。另一種為執(zhí)行機(jī)構(gòu)本身不帶伺服放大器,伺服放大器作為一個(gè)獨(dú)立單元與執(zhí)行機(jī)構(gòu)配合工作。電動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)本機(jī)由電動(dòng)機(jī)、減速機(jī)構(gòu)、限位機(jī)構(gòu)、過(guò)力矩保護(hù)機(jī)構(gòu)及位置反饋裝置等組合而成。

    MTS RHM0070UD601A01
    MTS RHM0235MD701S 1B6 102
    MTS RHM0420MD601A01
    MTS RHM0430MP031S1G3100
    MTS RHM0460MP031S1G3100
    MTS RHM0660MK031S1G3100
    MTS RHM0300MD701S1B6102
    MTS RHM0750MK051S1G6100

    伺服驅(qū)動(dòng)器的測(cè)試平臺(tái)主要有以下幾種:采用伺服驅(qū)動(dòng)器—電動(dòng)機(jī)互饋對(duì)拖的測(cè)試平臺(tái)、采用可調(diào)模擬負(fù)載的測(cè)試平臺(tái)、采用有執(zhí)行電機(jī)而沒(méi)有負(fù)載的測(cè)試平臺(tái)、采用執(zhí)行電機(jī)拖動(dòng)固有負(fù)載的測(cè)試平臺(tái)和采用在線測(cè)試方法的測(cè)試平臺(tái)。
    1采用伺服驅(qū)動(dòng)器—電動(dòng)機(jī)互饋對(duì)拖的測(cè)試平臺(tái)
    這種測(cè)試系統(tǒng)由四部分組成,分別是三相PWM整流器、被測(cè)伺服驅(qū)動(dòng)器—電動(dòng)機(jī)系統(tǒng)、負(fù)載伺服驅(qū)動(dòng)器—電動(dòng)機(jī)系統(tǒng)及上位機(jī),其中兩臺(tái)電動(dòng)機(jī)通過(guò)聯(lián)軸器互相連接。被測(cè)電動(dòng)機(jī)工作于電動(dòng)狀態(tài),負(fù)載電動(dòng)機(jī)工作于發(fā)電狀態(tài)。被測(cè)伺服驅(qū)動(dòng)器—電動(dòng)機(jī)系統(tǒng)工作于速度閉環(huán)狀態(tài),用來(lái)控制整個(gè)測(cè)試平臺(tái)的轉(zhuǎn)速,負(fù)載伺服驅(qū)動(dòng)器—電動(dòng)機(jī)系統(tǒng)工作于轉(zhuǎn)矩閉環(huán)狀態(tài),通過(guò)控制負(fù)載電動(dòng)機(jī)的電流來(lái)改變負(fù)載電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)矩大小,模擬被測(cè)電機(jī)的負(fù)載變化,這樣互饋對(duì)拖測(cè)試平臺(tái)可以實(shí)現(xiàn)速度和轉(zhuǎn)矩的靈活調(diào)節(jié),完成各種試驗(yàn)功能測(cè)試。上位機(jī)用于監(jiān)控整個(gè)系統(tǒng)的運(yùn)行,根據(jù)試驗(yàn)要求向兩臺(tái)伺服驅(qū)動(dòng)器發(fā)出控制指令,同時(shí)接收它們的運(yùn)行數(shù)據(jù),并對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行保存、分析與顯示。
    對(duì)于這種測(cè)試系統(tǒng),采用高性能的矢量控制方式對(duì)被測(cè)電動(dòng)機(jī)和負(fù)載設(shè)備分別進(jìn)行速度和轉(zhuǎn)矩控制,即可模擬各種負(fù)載情況下伺服驅(qū)動(dòng)器的動(dòng)、靜態(tài)性能,完成對(duì)伺服驅(qū)動(dòng)器的全面而準(zhǔn)確的測(cè)試。但由于使用了兩套伺服驅(qū)動(dòng)器—電動(dòng)機(jī)系統(tǒng),所以這種測(cè)試系統(tǒng)體積龐大,不能滿足便攜式的要求,而且系統(tǒng)的測(cè)量和控制電路也比較復(fù)雜、成本也很高。
    2采用可調(diào)模擬負(fù)載的測(cè)試平臺(tái)
    這種測(cè)試系統(tǒng)由三部分組成,分別是被測(cè)伺服驅(qū)動(dòng)器—電動(dòng)機(jī)系統(tǒng)、可調(diào)模擬負(fù)載及上位機(jī)。可調(diào)模擬負(fù)載如磁粉制動(dòng)器、電力測(cè)功機(jī)等,它和被測(cè)電動(dòng)機(jī)同軸相連。上位機(jī)和數(shù)據(jù)采集卡通過(guò)控制可調(diào)模擬負(fù)載來(lái)控制負(fù)載轉(zhuǎn)矩,同時(shí)采集伺服系統(tǒng)的運(yùn)行數(shù)據(jù),并對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行保存、分析與顯示。對(duì)于這種測(cè)試系統(tǒng),通過(guò)對(duì)可調(diào)模擬負(fù)載進(jìn)行控制,也可模擬各種負(fù)載情況下伺服驅(qū)動(dòng)器的動(dòng)、靜態(tài)性能,完成對(duì)伺服驅(qū)動(dòng)器的全面而準(zhǔn)確的測(cè)試。但這種測(cè)試系統(tǒng)體積仍然比較大,不能滿足便攜式的要求,而且系統(tǒng)的測(cè)量和控制電路也比較復(fù)雜、成本也很高。

    • KFM 壓力表 KFM160RB100
      KFM 控制器92704eq-99b1s2-xLg2r0cstc
      KFM 控制器92701 R21802077
      KFM 控制器93L31f R20905055
      KFM 控制器93MP30mk_F66x
      KFM  控制器93MP30g_F66x
      KFM  控制器821A30d
      KFM  控制器93MR30d
    • EMG光電傳感器PLE2-500.02C

    • 對(duì)中檢測(cè)裝置附件LIC 1375/01對(duì)中燈管控制器

    • LLs 1375

    • LLS875/03光源發(fā)射器

    • 光源發(fā)射器 LIC1375/11

    • 光學(xué)傳感器,EVM2-CP/1810.71/L/R,1810mm,24VDC/0.6A,EMG

    • 光學(xué)傳感器,EVK2-CP/800.71/L/R,800mm,24VDC/0.6A,EMG

    • 糾偏接收裝置EVK2-CP/800.71/L/R

    • 線性光源 LLS 675/02 24VDC/0.5A 品牌:EMG

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    • EVK2-CP/400.71/L/R EMG 傳感器

    • EVM2 CP/750.71/L/R傳感器 EMG

    • LS14.01 EMG 測(cè)量光電傳感器

    • EMG光電式測(cè)量傳感器 EVM2-CP/1850 71/L/R

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    • EMG LID2-800.2C 對(duì)中光源發(fā)射器

    • EMG LID2-300.2C 對(duì)中光源發(fā)射器

    • EMG LLS 1075 線性光源發(fā)射器

    • EMG LLS 1075/01 線性光源發(fā)射器

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    • EMG LLS 875/02 線性光源發(fā)射器

    • EMG LLS 675/01 線性光源發(fā)射器

    • EMG 線性光源發(fā)射器 LLS875/01

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      EMG LLS 475/01 線性光源發(fā)射器

      EMG LIC1075/11光源發(fā)射器

    • 左右尋邊頭 EVK2-CP/800.7LEVK2-CP/800.71/R  伺服放大器 EMG EVB  
      型號(hào):EVK2-CP/800.71/R/L  EVK2-CP/800.71/L/R

      左右尋邊頭 EVK2-CP/800.71/R EMG 對(duì)中裝置

     

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